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产品描述：
以氯氧化锆为原料，经萃取工艺进行锆铪分离，得到二氧化铪。
应用范围：
铪的热中子捕获截面大，是较理想的中子吸收体，可作原子反应堆的控制棒和保护装置。铪粉可作火箭的推进器。在电器工业上可制造X射线管的阴极。Hf-Ta合金可制造工具钢及电阻材料等。
二氧化铪是一种具有宽带隙和高介电常数的陶瓷材料，近来在工业界特别是微电子领域被引起极度的关注，由于它最可能替代硅基集成电路的核心器件金属氧化物半导体场效应管的栅极绝缘层二氧化硅，以解决MOSFET中传统SiO2/Si结构的发展的尺寸极限问题。
技术指标：
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项目 |
HfO2+ZrO2 |
烧失量 |
ZrO2 |
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一级 |
二级 |
三级 |
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含量/% |
≥96 |
≤0.5 |
≤0.5 |
≤1 |
≤3 |
*标准样品由客户与供应商协商确定
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安全 应采用良好的工业卫生习惯，避免产生灰尘。有关本产品处理的更多信息，请参阅材料安全数据表。 |
储存 本产品不应该存放在室外或露天存放。应当避免任何与水分及酸碱的腐蚀成分的直接接触。 |
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食品接触 客户应当通过联系龙佰集团以寻求确认遵守具体规定。 |
包装 100kg/桶，内塑外铁桶。 |